FeSiAl軟磁性複合材料におけるナノ酸化物修飾Si-O界面の空間分布および局所配位の制御
Spatial Distribution and Local Coordination Regulation of Nano-Oxide-Modified Si–O Interfaces in FeSiAl Soft Magnetic Composites
FeSiAl軟磁性複合材料(SMC)において、シリコーン樹脂コーティング系にAl2O3およびCeO2を添加し、800°Cの高温アニーリングを行うことで、アモルファスSi-Oリッチネットワークからなる絶縁界面の空間分布と局所配位を制御する手法が提案された。これによりSi-O-AlやSi-O-Ceに関連する酸素環境が形成される。0.5 wt.%のAl2O3を添加した材料は100 kHz、50 mTで144.31 mW/cm3の鉄損低減を達成し、1 wt.%のCeO2を添加した材料は100 kHzで97.88の高い実効透磁率を維持した。
- FeSiAl軟磁性複合材料にAl2O3またはCeO2を添加して800°Cアニーリングを行う界面制御技術により、0.5 wt.%のAl2O3添加で144.31 mW/cm3への鉄損低減、1 wt.%のCeO2添加で97.88の実効透磁率維持を達成した。
EVやパワーエレクトロニクス機器の高周波化に伴い、軟磁性複合材料(SMC)の高透磁率維持と鉄損低減の両立は重要な技術課題です。ナノ酸化物修飾による界面制御で優れた磁気特性を達成した本成果は、高効率インダクタや磁性コア部材の開発およびサプライチェーンの性能改善に寄与する可能性があります。