NIST、AI、半導体、積層造形などを推進する中小企業に180万ドル超を授与

米国商務省国立標準技術研究所(NIST)は、中小企業イノベーション研究(SBIR)プログラムを通じて、18社の中小企業に180万ドル超を授与した。これらの助成金は、人工知能、積層造形、標準、半導体デバイス、その他の重要技術に関連する新製品・サービスの研究開発を資金提供する。今回選ばれたプロジェクトは、NISTの研究分野に関連する技術的ニーズに対応する革新的な提案を募った結果、競争的に選定された。これらはすべて、提案された研究開発プロジェクトのメリット、実現可能性、商業的可能性を確立することを目的としたフェーズIのSBIR助成金である。フェーズIプロジェクトは6ヶ月間(2025年8月1日から2026年1月31日まで)を対象とし、完了後、受賞者は作業を継続するための最大40万ドルのフェーズII資金に応募する資格を得る。助成金は、PFAS除去技術、3Dプリント多孔質構造の製造と測定、積層造形用リアルタイムひずみイメージングツール、生成AI保護アルゴリズム、画像ベースシミュレーション用数値手法、微生物群集による高ストレス修復、生分解性プリント絶縁誘電体、海上バルク貨物業界向け計量標準化、ダイヤモンド中の固体欠陥アライメント方法、FirstNetとの連携評価、金属積層造形プロセスシミュレーション、半導体デバイスの熱ナノイメージング、AI安全性と説明可能性フレームワーク、粒子分離用マイクロ流体モジュール、AI駆動型スケーラブル決済プラットフォーム、量子耐性暗号アジリティ用ハードウェアブリッジ、モバイルMRSキャリブレーション用ファントム、機械学習ベースレーザーパウダーベッド融合インサイチュモニタリングパッケージなどの研究開発を支援する。